書名: 研發專案管理知識體系
作者: 魏秋建
ISBN: 9789571171999
出版社: 五南
出版日期: 2013/06
定價: 200
售價: 170
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【簡介】 踏入半導體專業領域,掌握科技語言的關鍵! 本書是以ESP(English for Special Purposes)教學理念為核心,聚焦於半導體技術的專業語言需求,內容涵蓋從基礎詞彙到進階應用的全方位學習資源。結合字彙與實用例句,幫助讀者快速理解專業術語的含義與使用情境,更囊括25個實際應用對話,模擬真實的產業溝通場景。本書特色如下: ● 全方位專業詞彙學習:系統化整理半導體技術常見詞彙,按字母排序,便於查詢與記憶。 ● 應用導向的情境對話:涵蓋晶圓製造、光刻技術、先進封裝等熱門話題,增強實務溝通能力。 ● 實用性與專業性並重:例句搭配場景,幫助讀者融會貫通專業術語的實際使用。 ● 助力國際職場競爭:不論是技術學習者或產業專業人士,皆能受益於本書內容。 本工具書適合行業新人、專業從業者,以及對半導體技術充滿熱情的學習者。透過本書,您將不僅提升語言能力,還能獲得進入國際舞台的核心競爭力! ※附MP3音檔QR code隨掃隨聽,隨時隨地背單字、練發音! 【目錄】 導論:ESP(English for Special Purposes)專業英文簡介 0-1 ESP的核心價值:實用性與針對性 0-2 ESP的歷史與發展 0-3 ESP的多元類型 0-4 ESP課程設計與教學策略 0-5 科技在ESP中的應用 0-6 台灣在推行ESP的發展現況 0-7 展望未來 第一章 半導體單字 非字母開頭及字母A 字母B 字母C 字母D 字母E 字母F 字母G 字母H 字母I 字母J 字母K 字母L 字母M 字母N 字母O 字母P 字母Q 字母R 字母S 字母T 字母U 字母V 字母W 字母X 字母Y 字母Z 第二章 情境與對話 情境與對話1:晶圓製造(Wafer Fabrication) 情境與對話2:先進封裝技術(Advanced Packaging Technology) 情境與對話3:製程技術(Process Technology) 情境與對話4:半導體材料(Semiconductor Materials) 情境與對話5:晶圓級封裝(Wafer-Level Packaging (WLP) ) 情境與對話6:半導體設計流程(Semiconductor Design Flow) 情境與對話7:積體電路(Integrated Circuits (ICs) ) 情境與對話8:封裝與測試(Packaging and Testing) 情境與對話9:薄膜沉積(Thin Film Deposition) 情境與對話10:半導體物理(Semiconductor Physics) 情境與對話11:光刻技術(Photolithography) 情境與對話12:晶圓切割(Wafer Dicing) 情境與對話13:電漿蝕刻Plasma Etching) 情境與對話14:電漿處理(Plasma Processing) 情境與對話15:晶圓測試(Wafer Testing) 情境與對話16:MOSFET設計(MOSFET Design) 情境與對話17:半導體製程控制(Process Control in Semiconductor Manufacturing) 情境與對話18:介電層沉積(Dielectric Layer Deposition) 情境與對話19:鍍膜技術(Coating Technology) 情境與對話20:半導體設備維護(Semiconductor Equipment Maintenance) 情境與對話21:功率半導體(Power Semiconductors) 情境與對話22:微機電系統(Microelectromechanical Systems (MEMS) ) 情境與對話23:晶圓清洗(Wafer Cleaning) 情境與對話24:氮化鎵技術(Gallium Nitride (GaN) Technology) 情境與對話25:製程標準化(Process Standardization)

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創新與專利管理:建構研發人員之創新與專利競爭力 作 / 譯 者 : 龍仕璋,陳瑞田,張嘉仁,吳俊逸 I S B N - 13 : 9789576099717 I S B N - 10 : 9576099717 類 別: 智慧財產法 版 次: 1 版 年 份: 2015 規 格: 222 頁 出 版 商: 華泰文化事業股份有限公司 本書編寫的特色,就是讓公司企業的研發、法務及管理者三種部門的從業人員,以及工程、法律及管理等科系在學者,在技術與專利、市場發展、智財法律上,都能有基本的概念,以便現在與未來職場上能夠具備進一步研修的基礎概念與知識。 本書結構主題是圍繞在專利、市場與法律等三構面上;在專利構面上的主題包含:技術研發在專利申請上的評估、專利資訊的閱讀、專利在競爭策略上的意義;在市場構面上的範圍包含:產業趨勢發展分析、專利品質的評估、專利布局與專利家族、未來的創新技術發展趨勢;而在法律構面的領域則包含:對國際專利組織與產業標準的了解、專利迴避設計的行使、專利侵權鑑定、專利稽核等內容。 現今的企業競爭已成為綜合性競賽,惟有熟稔其中各種產業遊戲規則,方能於技術發展、專利法律與市場經營中勝出。 目錄 第一章 研發創新保護與專利申請要件評估 第二章 國際專利組織與產業標準 第三章 研發人員如何閱讀專利資訊 第四章 專利競爭策略與迴避設計 第五章 發明新型專利侵權鑑定 第六章 創新技術的產業分析與專利

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