薄膜光學與鍍膜技術 (9版)

其他會員也一起購買

書名：薄膜光學與鍍膜技術(第九版) 作者：李正中 出版社：藝軒 出版日期：2019/12/00 ISBN：9789863940296 內容簡介 光學薄膜是指在光學元件上或獨立基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜或介電質膜與金屬膜組成之膜堆來改變光波傳遞的特性。所以薄膜光學這一門科學，即在研究光波在這些薄膜中行進的現象與原理。包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位變化等，進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學與工程上的應用。本書原為授課之講義，因隨著科技的進展必須補充新的教材，故在第二版出版不到一年的時間，立即增添新內容，目前已至第八版，內容詳實和更新速度最適合專業人士和學生研讀。 目錄 符號說明 1. 引言 2. 基本理論 電磁波 單界面之反射與透射 單層膜之反射與透射 多層膜之反射與透射 多層膜矩陣的一些特性 非相干性之反射與透射 金屬薄膜之光學特性 3. 光學薄膜設計之圖示法 向量法 導納軌跡法 計算機程式之應用 4. 分光鏡 中性分光鏡 雙色分光鏡 偏振光分光鏡 5. 高反射鏡 金屬膜反射鏡 全介電質膜高反射鏡 全介電質膜高反射帶之拓寬 膜層損耗對四分之一波膜堆的影響 量子點在薄膜中的應用 6. 截止濾光片 非干涉型截止濾光片 干涉型截止濾光片 7. 帶止濾光片 高低折射率膜堆法 折射率漸變膜及非均勻膜法 8. 帶通濾光片 寬帶濾光片 窄帶濾光片 多腔窄帶濾光片 誘導透射濾光片 9. 斜向入射薄膜 斜向入射時薄膜折射率之修正 斜向入射時光學導納之修正 消偏振鍍膜 斜向入射效應之應用 金屬鍍保護膜後之斜向反射率 10. 光學薄膜的製鍍方法 液體成膜法 氣體成膜法 增能助鍍及其他方法 11. 光學薄膜之特性與製鍍技術的改進 各種改進膜質的製鍍方法 混合式改進法 以單一材料製鍍多層膜 膜微觀結構與雙折射特性 12. 薄膜厚度之均勻性及鍍膜厚度之監控 膜分佈之理論分析 實作基板支撐架及膜厚監控的選擇 13. 光學薄膜特性的量測 薄膜光學常數的量測 薄膜透射率、反射率、吸收與散射量測 薄膜堆積密度之量測 薄膜表面輪廓及粗糙度的量測 薄膜微硬度、抗擦性、附著性及環境溫溼變化之量測 薄膜應力之量測 薄膜微觀結構之分析 薄膜成份之分析 雷射輻射對薄膜損傷承受值的量測 14. 光學薄膜材料 光學薄膜之基本要求 常用光學薄膜之製鍍與特性 兩種材料混合的折射率 毒性 15. 紫外光及X-光波域之光學薄膜 紫外光光學薄膜 X-光光學薄膜 16. 光學濾光片製鍍範例 濾光片的設計 基板的準備 鍍膜與膜厚之監控 光學成效檢驗 非光學特性之檢驗 鍍膜機的清理 17. 光學薄膜與色彩 CIEＸＹＺ色度座標 光度學 光源 光學薄膜的色彩與應用 18. 塑膠及軟性基板的鍍膜 塑膠基板的光學鍍膜 疏水膜與親水膜 軟性基板的阻氣膜 19. 超穎薄膜 電磁波的的傳遞與負折射率材料 介電質-金屬介面的表面電漿 介電質與金屬組合之膜堆 對入射角變化不敏感的濾光片 廣波域近乎完全吸收膜 突破繞射極限的濾光片 附錄一 光波之相干性與干涉 附錄二 CIE 1931配色函數與光譜光視效函數 附錄三 光學薄膜材料特性 附錄四 有關薄膜光學原理、製作及檢測之參考書與會議 索引