半導體奈米技術 (3版)

半導體奈米技術(精) 作者： 龍文安 出版社：五南 出版日期：2010/07/08 語言：繁體中文 定價：1200元 優惠價：85折1020元 內容簡介 　　半導體製程已進入奈米線幅，而廣義微影技術為半導體製程之核心，惜國內尚無中文微影技術專書，因此決定教研之餘撰寫本書，以彌補此缺憾與空白，並為推動科技中文化，略盡個人棉薄。 　　本書重點在微影技術原理與概念之說明，而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵，例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖規、阻劑、解像度增進技術、銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。基於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗，本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。 　　末來數年，半導體量產線幅當推進至45-32-22奈米技術節點，光學微影製程之難度日益增加，對製程工程師之挑戰亦日益升高。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值。 目錄 第一章　背景知識 第二章　微影緒論 第三章　微影製程概述 第四章　基礎光學 第五章　微影光學 第六章　主要微影方法 第七章　其他微影方法 第八章　圖罩與圖規 第九章　阻劑化學 第十章　解像度增進技術 第十一章　銅互連線 第十二章　化學機械研磨 第十三章　電漿蝕刻 第十四章　微影模擬