| 書名: | 半導體製造技術 (1版) | |||
| 作者: | QUIRK | |||
| 譯者: | 羅文雄 | |||
| 版次: | 1 | |||
| ISBN: | 9789867727701 | |||
| 出版社: | 滄海 | |||
| 出版日期: | 2016/10 | |||
| 重量: | 1.44 Kg | |||
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#工程
#電子與電機 #電子材料/元件與製造技術 #半導體 |
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【中文翻譯書】 書名 :半導體製造技術 原文書名:Semiconductor Manufacturing Technology 原文作者:Michael Quirk 中文譯者:羅文雄 初版日期:2016 出版社:滄海 ISBN:9789867727701 本書特色 ●對於半導體製造技術從晶圓準備、次微米製程及封裝測試方面 皆做完整詳盡的介紹。 ●最淺顯易懂的字詞揭示出原文書之精湛內容。 ●對大專在學學生及實際線上工程師而言,皆是一本優良的課程 教材及技術入門手冊。 校閱者簡介 劉文超 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立成功大學電機工程系教授 國立成功大學微電子研究所教授 許渭州 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立成功大學電機工程系微電子所所長 國立成功大學電機工程系教授 國立成功大學微電子研究所教授 譯者簡介 羅文雄 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立臺灣海洋大學電機工程系教授 蔡榮輝 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立高雄師範大學物理系副教授 鄭岫盈 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 亞東技術學院電機工程系助理教授 本書目錄 第1章 半導體工業簡介 第2章 半導體材料特性 第3章 元件技術 第4章 矽與晶圓準備 第5章 半導體製造之化學特性 第6章 半導體製造廠之污染控制 第7章 量測與缺陷 第8章 製程反應室之氣體控制 第9章 IC製造概述 第10章 氧化 第11章 沈積 第12章 金屬化 第13章 微影:氣相塗底至軟烤 第14章 微影:對準與曝光 第15章 微影:光阻顯影與先進雕像 第16章 蝕刻 第17章 離子植入 第18章 化學機械平坦化 第19章 晶圓測試 第20章 裝配與封裝 附錄A 化學品及其安全性 附錄B 無塵室中的污染控制 附錄C 單位 附錄D 以氧化物厚度為函數的顏色 附錄E 光阻化學品概論 附錄F 蝕刻化學品
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【簡介】 本書詳述了西元2010年後的實際量產之半導體技術,首先介紹基礎半導體知識,以及基礎的模組製程。此外,本書更以四百張以上圖例,詳細說明二維平面式電晶體之製程整合技術,以及三維鰭式電晶體之製程整合技術。 先進的半導體製程技術,如受應力之矽通道、高介電閘極氧化層、金屬閘極、元件閘極設計考量、MOSFET 遷移率、先進的源極與汲極工程,都有詳細的說明與探討。 材料分析技術,如掃描式電子顯微鏡、穿透式電子顯微鏡、X光光譜分析、拉曼光譜儀等,都涵蓋實例應用說明。 半導體製程未來發展趨勢,包含有鰭式場效電晶體的微縮極限、環繞式閘極場效電晶體(GAAFET)、互補式場效電晶體 (CFET)、垂直傳輸場效電晶體、三維積體電路技術 (3D IC),皆有詳細說明。 本書為半導體製程與整合相關知識內容之教科書,適合大專院校相關理工科系,也適合給從事半導體產業相關人員與相關領域專家參考。 【目錄】 第一章 半導體積體電路發展 第二章 基礎半導體材料 第三章 基礎半導體元件 第四章 氧化與加熱製程 第五章 微影製程 第六章 擴散與離子佈植製程 第七章 蝕刻製程 第八章 介電質薄膜與化學氣相沉積 第九章 半導體金屬化製程 第十章 CMOSFET製程整合 第十一章 先進元件製程 第十二章 FinFET製程整合 第十三章 半導體材料分析技術 第十四章 半導體元件製程發展趨勢
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書名:半導體製造裝置 作者:鄭正忠 出版社:普林斯頓 出版日期:2003/12/00 ISBN:9789867688309 內容簡介 本書共分為10章。第○章是解說半導體製造裝置的相關產業;第一章針對半導體元件之製造工程做介紹,之後第二章針對隨著半導體製造進步而一路發展而來的半導體製造裝置之歷史做一回顧。第三章至第五章則先對半導體製造裝置之角色、分類、構造、方式做說明,隨即說明各設備的內容。第六章則是從半導體工廠之現場的觀點來看半導體製造裝置。 第七章以後,將以更寬廣的觀點來看半導體製造裝置。第七章介紹的是半導體製造裝置的技術要素,第八章是半導體製造裝置技術的發展期程(Roadmap),第九章則是介紹21世紀之半導體製造裝置。 目錄 第○章 半導體製造裝置的世界 第一章 半導體元件製造工程 第二章 半導體製造裝置的技術史 第三章 半導體製造裝置之種類及角色 第四章 半導體製造裝置之構成及方式 第五章 半導體製造裝置之實例及概要 第六章 半導體製造裝置之現場 第七章 半導體製造裝置之技術要素 第八章 半導體製造裝置技術之發展期望 第九章 21世紀之半導體製造裝置─半導體製造裝置進化論 進一步學習半導體製造裝置的參考書 引用文獻及資料 英中文索引
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半導體製程設備 Semiconductor Processing Equipment 作 者:張勁燕 出版社別:五南 出版日期:2022/07/28(4版5刷) ISBN:978-957-11-5250-9 書 號:5D24 頁 數:600 開 數:16K 內容簡介 半導體元件由矽土製成矽晶圓, 再經數百個製程步驟,才製作出256M級的DRAM。這期間所使用的機器,主要的也不過十數種。晶圓成長爐、磊晶反應器、步進照像儀、化學氣相沉積爐、氧化和擴散高溫爐、離子植入機、乾蝕刻機、電子束蒸鍍機、濺鍍機、化學機械研磨機等。以及封裝製程設備、真空幫浦及系統洗淨機器等主要支援設備。本書對這些機器的構造和操作原理都有詳盡的敘述。 砷化鎵Ⅲ–Ⅴ化合物半導體製程,如金屬有機化學氣相沉積爐、分子束磊晶和銅製程使用設備、低介電常數介電製作設備以及一些2000千禧年推出的新機器,也都在本書有詳盡的敘述,次世代先進的製程設備也有一些介紹。本書是編著者累積多年經驗、費時一年而完成的。期望能給想從事半導體業的同學們一項內容豐富有力的教科書。給業界的工程師、研究生、教授老們一項便捷的參考。 【作者簡介】 張勁燕 現職:逢甲大學電子系副教授 學歷:交通大學電子工程研究所博士 經歷:新加坡Intersil電子公司工程師 ITT環宇電子公司工程部經理 台灣電子電腦公司半導體廠廠長 萬邦電子公司總工程師 明新工專電子科副教授(或兼科主任) 逢甲大學電機系副教授(或兼系主任) 專長:半導體元件、物理 VLSI製程設備及廠務 奈米科技 積體電路構裝 目錄 第1章 晶體成長和晶圓製作 第2章 磊晶沉積設備 第3章 微影照相設備 第4章 化學氣相沉積爐 第5章 氧化擴散高溫爐 第6章 離子植入機 第7章 乾蝕刻機 第8章 蒸鍍機 第9章 濺鍍機 第10章 化學機械研磨 第11章 真空泵和真空系統 第12章 濕洗淨和乾洗淨製程設備 第13章 封裝製程設備
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