半導體製造技術 (1版)

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【中文翻譯書】 書名 ：半導體製造技術 原文書名：Semiconductor Manufacturing Technology 原文作者：Michael Quirk 中文譯者：羅文雄 初版日期：2016 出版社：滄海 ISBN：9789867727701 本書特色 　 ●對於半導體製造技術從晶圓準備、次微米製程及封裝測試方面 　皆做完整詳盡的介紹。 ●最淺顯易懂的字詞揭示出原文書之精湛內容。 ●對大專在學學生及實際線上工程師而言，皆是一本優良的課程 　教材及技術入門手冊。 校閱者簡介 劉文超 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立成功大學電機工程系教授 國立成功大學微電子研究所教授 許渭州 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立成功大學電機工程系微電子所所長 國立成功大學電機工程系教授 國立成功大學微電子研究所教授 譯者簡介 羅文雄 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立臺灣海洋大學電機工程系教授 蔡榮輝 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 國立高雄師範大學物理系副教授 鄭岫盈 學歷 國立成功大學電機工程研究所博士 現職 亞東技術學院電機工程系助理教授 本書目錄 　 第1章 半導體工業簡介 第2章 半導體材料特性 第3章 元件技術 第4章 矽與晶圓準備 第5章 半導體製造之化學特性 第6章 半導體製造廠之污染控制 第7章 量測與缺陷 第8章 製程反應室之氣體控制 第9章 IC製造概述 第10章 氧化 第11章 沈積 第12章 金屬化 第13章 微影：氣相塗底至軟烤 第14章 微影：對準與曝光 第15章 微影：光阻顯影與先進雕像 第16章 蝕刻 第17章 離子植入 第18章 化學機械平坦化 第19章 晶圓測試 第20章 裝配與封裝 附錄A 化學品及其安全性 附錄B 無塵室中的污染控制 附錄C 單位 附錄D 以氧化物厚度為函數的顏色 附錄E 光阻化學品概論 附錄F 蝕刻化學品

表面與薄膜處理技術(第五版)5/e (5版)

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商品描述 固體材料的表面問題既已發展成一非常多樣化的科技，很多出版的參考書籍以專題深入探討或以工具書出現，不易為初學者所接受，也不適宜當教材之用。因此作者就重要的問題分成十二章討論。這十二章的結構實際上可以看成五個部份，第一部份為基礎篇，這些都是乾式氣相表面處理最常面臨的技術。第二部份為氣相技術篇，乃常見的乾式氣相表面處理技術。第三部份為液相技術篇，亦即最傳統的表面處理技術，包括無極鍍、化成、取代及電鍍和電鑄，陽極處理實際上相等於電化學反應的化成作用。第四部份為薄膜篇，包括薄膜的成長及微結構、薄膜的特性及量測。第五部份為前瞻篇，它們已脫離常見表面技術的章節，其中有微機電系統、奈米技術及表面的物理化學性質。本書適合大學、科大、技術學院機械工程、電機、電子材料、化學工程科系『薄膜技術』課程使用。 1.固體材料的表面問題已發展成一非常多樣化的科技，本書內容以深入淺出的方式表達，使其成為最適宜的教材。 2.作者就重要問題分成十二章討論，共分為五大部分為；基礎篇、氣相技術篇、液相技術篇、薄膜篇與前瞻篇，內容精選，整理完善。 3.適合大學、科大、技術學院機械工程、電機、電子材料、化學工程科系『薄膜技術』課程使用。 目錄大綱 第1章　緒　論 一、表面處理的意義 二、表面處理的應用 三、表面處理的分類 四、技術選用考量因素 五、結　語 第2章　基本設備 一、溫度的量測 二、真空系統 第3章　認識電漿 一、電漿的產生 二、電漿的特性 三、電漿的化學反應 四、電漿在表面技術上的應用 第4章　物理蒸鍍 一、熱力學 二、氣體動力學 三、蒸　鍍 四、蒸鍍設備 五、合金蒸鍍 六、化合物蒸鍍 七、應　用 第5章　濺射鍍膜 一、前　言 二、粒子的撞擊 三、動能的轉移 四、撞擊效應 五、濺射的方法 六、濺射係數 七、濺射鍍膜技術 八、靶　材 九、濺鍍和熱蒸鍍的比較 十、應　用 第6章　化學氣相蒸鍍 一、前　言 二、化學問題 三、熱力學的問題 四、化學動力學的問題 五、CVD設備及系統 六、應　用 第7章　液相表面處理 一、前　言 二、前處理 三、無極電鍍 四、取代反應 五、化成被覆 六、電　鍍 七、陽極處理 八、電　鑄 九、廢水處理 第8章　薄膜的成長及微結構 一、前　言 二、表面前清理 三、薄膜的成長 四、微結構 五、磊　晶 第9章　薄膜特性及量測 一、前　言 二、厚　度 三、薄膜特性 四、表面分析儀器 五、其他表面分析儀器 第10章　表面蝕刻及微機電系統 一、圖樣化及蝕刻 二、微機電系統 三、矽製程 第11章　奈米技術 一、奈米材料 二、奈米科技發展史 三、奈米合成和表面技術 四、奈米材料之特徵 五、奈米材料之應用 六、結　語 第12章　表面的物理化學性質 一、前　言 二、表面張力 三、電　濕 四、L-B薄膜

薄膜科技與應用 (6版)

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薄膜科技與應用 ISBN13：9786263283237 出版社：全華圖書 作者：羅吉宗 裝訂：平裝 規格：23cm*17cm*2cm (高/寬/厚) 版次：6 出版日：2022/09/01 中國圖書分類：鍛工 1.薄膜是實踐電子元件輕薄短小、低損耗能量之關鍵技術，使固態電子產品之進步發展得以靈活設計及精確控制其品質。 2.薄膜技術涉及多門學科領域，本書將薄膜的應用與製作薄膜所用到的真空技術、熱力、電漿科技皆有所涵蓋。 3.本書內容共為八章，前四章介紹薄膜製作技術所用到的各種裝備與物理機制，第五、六章說明如何製作高品質薄膜和薄膜品質對元件電性的影響，第七、八兩章說明量測薄膜特性的各種技術與原理。 內容簡介 薄膜技術的進展和表面界面物理導入，使電子元件實現了輕薄短小，且有效控制半導體材料和固態元件之品質。坊間有多種薄膜技術叢書，但多僅闡述製作技術。本書將引導對薄膜有興趣者認識真空、電漿、長膜機制，製作高品質薄膜的要件，薄膜品質之鑑定和薄膜製作技術如何改善電子元件功能等。本書前四章介紹薄膜沉積所用到的真空、電漿、熱力、動力等薄膜生長機制；第五、六章介紹高品質薄膜對元件電性之影響；第七、八章說明量測薄膜特性之技術與原理。是一本適合大學、科大機械、電機、化工、材料系三、四年級「薄膜技術」、「薄膜工程」課程使用，也適合從事微電子技術之產業界的專業人員使用。

薄膜光學與鍍膜技術 (9版)

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書名：薄膜光學與鍍膜技術(第九版) 作者：李正中 出版社：藝軒 出版日期：2019/12/00 ISBN：9789863940296 內容簡介 光學薄膜是指在光學元件上或獨立基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜或介電質膜與金屬膜組成之膜堆來改變光波傳遞的特性。所以薄膜光學這一門科學，即在研究光波在這些薄膜中行進的現象與原理。包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位變化等，進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學與工程上的應用。本書原為授課之講義，因隨著科技的進展必須補充新的教材，故在第二版出版不到一年的時間，立即增添新內容，目前已至第八版，內容詳實和更新速度最適合專業人士和學生研讀。 目錄 符號說明 1. 引言 2. 基本理論 電磁波 單界面之反射與透射 單層膜之反射與透射 多層膜之反射與透射 多層膜矩陣的一些特性 非相干性之反射與透射 金屬薄膜之光學特性 3. 光學薄膜設計之圖示法 向量法 導納軌跡法 計算機程式之應用 4. 分光鏡 中性分光鏡 雙色分光鏡 偏振光分光鏡 5. 高反射鏡 金屬膜反射鏡 全介電質膜高反射鏡 全介電質膜高反射帶之拓寬 膜層損耗對四分之一波膜堆的影響 量子點在薄膜中的應用 6. 截止濾光片 非干涉型截止濾光片 干涉型截止濾光片 7. 帶止濾光片 高低折射率膜堆法 折射率漸變膜及非均勻膜法 8. 帶通濾光片 寬帶濾光片 窄帶濾光片 多腔窄帶濾光片 誘導透射濾光片 9. 斜向入射薄膜 斜向入射時薄膜折射率之修正 斜向入射時光學導納之修正 消偏振鍍膜 斜向入射效應之應用 金屬鍍保護膜後之斜向反射率 10. 光學薄膜的製鍍方法 液體成膜法 氣體成膜法 增能助鍍及其他方法 11. 光學薄膜之特性與製鍍技術的改進 各種改進膜質的製鍍方法 混合式改進法 以單一材料製鍍多層膜 膜微觀結構與雙折射特性 12. 薄膜厚度之均勻性及鍍膜厚度之監控 膜分佈之理論分析 實作基板支撐架及膜厚監控的選擇 13. 光學薄膜特性的量測 薄膜光學常數的量測 薄膜透射率、反射率、吸收與散射量測 薄膜堆積密度之量測 薄膜表面輪廓及粗糙度的量測 薄膜微硬度、抗擦性、附著性及環境溫溼變化之量測 薄膜應力之量測 薄膜微觀結構之分析 薄膜成份之分析 雷射輻射對薄膜損傷承受值的量測 14. 光學薄膜材料 光學薄膜之基本要求 常用光學薄膜之製鍍與特性 兩種材料混合的折射率 毒性 15. 紫外光及X-光波域之光學薄膜 紫外光光學薄膜 X-光光學薄膜 16. 光學濾光片製鍍範例 濾光片的設計 基板的準備 鍍膜與膜厚之監控 光學成效檢驗 非光學特性之檢驗 鍍膜機的清理 17. 光學薄膜與色彩 CIEＸＹＺ色度座標 光度學 光源 光學薄膜的色彩與應用 18. 塑膠及軟性基板的鍍膜 塑膠基板的光學鍍膜 疏水膜與親水膜 軟性基板的阻氣膜 19. 超穎薄膜 電磁波的的傳遞與負折射率材料 介電質-金屬介面的表面電漿 介電質與金屬組合之膜堆 對入射角變化不敏感的濾光片 廣波域近乎完全吸收膜 突破繞射極限的濾光片 附錄一 光波之相干性與干涉 附錄二 CIE 1931配色函數與光譜光視效函數 附錄三 光學薄膜材料特性 附錄四 有關薄膜光學原理、製作及檢測之參考書與會議 索引