X光繞射與應用(第二版)
+作者：盧天惠編著
+年份：2011 年2 版
+ISBN：9789866507908
+書號：PH0106
+規格：18開/平裝/單色
+頁數：400
+出版商：滄海
自從晶體學計算機程式被廣泛應用以來，雖然減輕晶體學者的負擔，但是如何判斷程式計算的過程是對的，則必須具備晶體學的知識，才有信心而竟其功。本書幫讀者消除晶體學的困惑，充實讀者的信心，解決研究上的問題。
本書第一版出版倉促，隨後仔細閱讀，發現：大錯誤沒有，小毛病不少，或文字的語音與文字的意義有差別；或圖式的尺寸與例題對不上；或語意不夠通順；或編排不夠完整；或用字不夠恰當；或索引不夠完備；加上第一版付梓的冊數也將售磬，因此決定再版。
第二版除了改正上述缺點外，也將原先第一版附錄併入第7章，公式編排重新制定。文書的語句力求通順；內容循序漸進、力求完整；編排一致，前後連貫；儘量做到零缺點的地步。
§與前版差異
第二版改正了第一版的缺點－－文字的語音與文字的意義有差別、圖式的尺寸與例題對不上、語意不夠通順、編排不夠完整、用字不夠恰當、索引不夠完備等；也將原先第一版的附錄併入第7 章，公式編排重新制定；文字的語句力求通順；內容循序漸進、力求完整；編排一致、前後連貫；儘量做到零缺點的地步。
目錄
第1篇 基本原理
第1章 X光
第2章 X光繞射
第3章 對稱運算與空間群
第2篇 基礎科學的應用
第4章 勞厄繞射與單晶的定向
第5章 實驗數據的取得
第6章 單晶結構
第7章 蛋白質晶體學
第3篇 材料科學的應用
第8章 粉晶結構
