書名: 報告教官我想飛:培訓機師成功考取指南 2017 <致良> (1版)
作者: 彼得潘
版次: 1
ISBN: 9789577869296
出版社: 致良出版社
頁數: 164
內文印刷顏色: 單色
#教育
#教學實務
定價: 250
售價: 225
庫存: 庫存: 3
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書名:報告教官我想飛:培訓機師成功考取指南 作者:彼得潘 出版社:致良 出版日期:2017/07/00 ISBN:9789577869296 內容簡介   近年來,在各家航空公司的大力宣傳之下,懷抱機師夢的人越來越多。但如何在這僧多粥少的情況下,擠進錄取率只有2%的窄門中呢?   作者在錄取機師後,不僅與朋友分享自己的經驗,成功幫過許多人完成夢想順利考取,也遇過因聽信各種小道消息而機師夢破滅的人。因此,作者希望透過本書分享自己當年辛苦應試的心路歷程、不同航空公司的筆試方向分析,以及通過培訓機師甄選的訣竅,幫助更多人一圓機師夢。   書末特別附上考試版的check list、作者推薦書單與簡易模擬試題解析供大家參考喔!

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航空心理學(二版) 系列名:心理學叢書 ISBN13:9789869908917 出版社:洪葉文化 作者:程千芳;游一龍 裝訂/頁數:平裝/437頁 規格:23cm*17cm*2.1cm (高/寬/厚) 重量:680克 版次:2版1刷 出版日:2020/09/01 中文圖書分類:航空 內容簡介 第一作者曾歷任民航局航醫中心研究員及空軍官校心理諮商科教職達十數年,從事民航機師心理狀態評估、飛行員甄選工具的研發和飛訓生諮商輔導的工作。全方位的了解到軍航與民航各自有其所屬的任務與使命、人員培訓計畫、安全監控機制與對飛航文化要求的回應。十七年前伊始第一作者並加入歐洲航空心理學會並獲該會認證為航空心理學者,更深耨飛航安全實務問題的敏感察覺機制與問題解決策略和方法的有效實施。健康心理學的實徵研究結果在近十年來已逐漸為航空心理學各次領域活潑的帶入關鍵的思維主軸,本書已竭力引入這些即時的發展趨勢。為鼓勵有志於飛航相關工作及對飛航問題有興趣的讀者,本書於每一章的開頭都列有由第二作者整理的幾則近二十年來因人為因素造成飛航事故的真實故事,一則能使讀者如臨其境,發為深省,引起讀趣;二則期盼經由這些可怕且代價昂貴的教訓分享,喚起國人對於飛航安全中人為因素的重視。本書具有清晰的心理學理論介紹、完整的航空心理學主題架構,並提供有最完整的實徵研究證據及實務工作的細心觀察。 目錄 第零篇 航空心理 第一章 航空心理學簡介 航空心理學的領域/航空心理學史/國內航空心理學的足跡/航空心理學五大範疇 第一篇 人因工程 第二章 認知與知覺 人類訊息處理之基本心理歷程/技能、規則和知識三類行為/工作負荷/錯覺/空間迷向/落地時的視覺線索/視覺搜尋和空中碰撞/座艙自動化 第三章 情境覺察與決策判斷 情境覺察/組員態度、行為與情境覺察之關係/座艙自動化與飛航決策/飛行員的判斷與決策/有利決策的態度養成和危機管理/ADM之介紹/NDM之介紹/NDM應用於ADM 第四章 動機與情緒 不安全的行為/動機與需求/成就動機/工作動機/公平理論/期望理論/心理衝突/懼飛/飛行生之學習動機、態度和壓力處理 第二篇 人員甄選 第五章 職場性格 性格的概念/飛航性格特質/適航性格特質/飛行專業次團體的性格特質/理想的飛行員性格/危安的性格研究/性格與健康 第六章 人員甄選的概念 飛航甄選之重要性/目前甄選系統的問題/建立甄選系統的步驟/甄選系統之信效度評估/測驗成績的分類/飛航甄選系統未來的努力方向 第七章 甄選心理測驗與實務 飛行員甄選實務/飛訓生的甄選/飛行潛質預測機率值/飛航管制員甄選測驗/飛航管制員測驗的常模與性別研究/空服員甄選的心理素質與標準/精進飛航人員心理測驗之研發 第三篇 人員訓練 第八章 成人的教育與訓練 成人學習的特徵/職場上的學習─情境學習/自我調整在航空學習的角色/影響學習成效的因素/影響飛訓生習飛成效的關鍵因素/教官對飛訓生的影響/飛行訓練的規劃/飛行員技能之發展與態度之形成/心理素質訓練課程的發展步驟/提升飛航人員心理素質之研究與訓練 第九章 組員資源管理 組員資源管理/何謂資源?/性格和態度在CRM訓練中的角色/CRM溝通的基本概念/CRM的溝通技巧/領導統御的基本概念/領導統御的理論/CRM成效之證例 第十章 作業風險管理 作業風險管理/ORM的六大步驟/落實ORM確保安全 第四篇 健康心理 第十一章 動暈與防治訓練 動暈症/多元模式飛行動暈症假說/動暈防治與訓練/動暈症的認知行為治療法/動暈防治研究實例/潛抑與壓力因應和工作表現/心理防衛機制/健康的生活習慣 第十二章 壓力與因應 疲勞(壓力)控管的重要性/壓力的概念/壓力、喚起程度與工作表現之關係/飛航壓力源的分析/面對壓力時的反應/因應策略/睡眠品質與壓力因應和工作表現之關係/壓力管理/自我管理理論之應用 第十三章 健康心理與優雅老化 不當的壓力會折損健康/Selye的「一般適應症候群」/秘密:潛抑和自我隱瞞的壓力因應模式/自我隱瞞、潛抑與飛航壓力和工作表現之關係/自我揭露的壓力因應模式/正向和負向的自我揭露經驗/社會支持與壓力因應的關係/飛行員與優雅老化/SOC模式優雅成功老化/飛行員老化相關之記憶改變/年齡影響新事物的學習/預防記憶損失/社會心理發展與成功優雅老化 第五篇 安全文化 第十四章 文化與人類行為 文化的概念/國家文化/Hofstede的國家文化向度/國家文化與飛航人員工作態度、價值觀之關係/本國籍和外國籍民航機師在國家文化因素之比較/華人「差序格局」的概念/組織文化/專業文化/飛航性別之差異/飛航三類文化的關係 第十五章 組織文化與心理行為 組織文化與座艙態度的研究/國籍在組織文化和座艙態度上之比較/因素結構分析/組織次文化與飛航心理與行為的分析/東方先生(小姐)遇上西方小姐(先生)/文化適應之技巧 第十六章 安全的文化 客艙安全認知/安全文化之成分/安全文化之發展/危機管理和失誤管理/失誤的本質/失誤的來源/人為失誤的分類/人為失誤之因應/研究人為失誤的方法/個體和組員之失誤管理策略/組織安全文化及失誤管理之調查技術/信任是建立安全文化的基石

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【簡介】 本書譯自Hong Xiao(蕭宏) 原著「Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology」(第二版),提供最新的半導體製程相關加工技術之介紹與各種加工原理之說明與應用,是半導體製程實務最為鉅細靡遺的著作。本書適用於大學、科大電子、電機、資工、機械系『半導體工程』、『半導體製程』、『半導體導論』課程使用。 1.本書的內容集中在最新的積體電路製程技術同時也兼顧早期的技術以便讀者對積體電路製程技術的歷史發展有更完整的瞭解。 2.書內提供半導體製程相關加工技術之介紹與各種加工原理之說明與應用,使學生熟悉各種加工原理及其應用領域,以作為投入電子工業之基礎訓練課程。 3.此書委實是對半導體製程實務最為鉅細靡遺的著作,作為技術人員的工具書或有興趣了解晶圓廠的教科書,都是最適合的寶典。 【目錄】 第一章 導論 1.1 簡史 1.2 概述 1.3 本章總結 習題 參考文獻 第二章 積體電路製程介紹 2.1 IC製程簡介 2.2 IC的良率 2.3 無塵室技術 2.4 IC晶圓廠的基本結構 2.5 IC測試與封裝 2.6 近期的發展 2.7 本章總結 習題 參考文獻 第三章 半導體基礎 3.1 半導體基本概念 3.2 半導體基本元件 3.3 IC晶片 3.4 IC基本製程 3.5 互補式金屬氧化物電晶體 3.6 2000後半導體製程發展趨勢 3.7 本章總結 習題 參考文獻 第四章 晶圓製造、磊晶成長和基板工程 4.1 簡介 4.2 為什麼使用矽材料 4.3 晶體結構與缺陷 4.4 從矽砂到晶圓 4.5 磊晶矽生長技術 4.6 基板工程 4.7 未來趨勢 4.8 本章總結 習題 參考文獻 第五章 加熱製程 5.1 簡介 5.2 加熱製程的硬體設備 5.3 氧化製程 5.4 擴散 5.5 退火過程 5.6 高溫化學氣相沉積 5.7 快速加熱製程(RTP)系統 5.8 加熱製程近年發展 5.9 本章總結 習題 參考文獻 第六章 微影製程 6.1 簡介 6.2 光阻 6.3 微影製程 6.4 微影技術的發展趨勢 6.5 其他微影製程方法 6.6 極紫外光(EUV)微影技術 6.7 安全性 6.8 本章總結 習題 參考文獻 第七章 電漿製程 7.1 簡介 7.2 電漿基本概念 7.3 電漿中的碰撞 7.4 電漿參數 7.5 離子轟擊 7.6 直流偏壓 7.7 電漿製程優點 7.8 電漿增強化學氣相沉積及電漿蝕刻反應器 7.9 遠距電漿製程 7.10 高密度電漿(HDP)製程 7.11 本章總結 習題 參考文獻 第八章 離子佈植製程 8.1 簡介 8.2 離子佈植技術簡介 8.3 離子佈植技術硬體設備 8.4 離子佈植製程 8.5 安全性 8.6 近年發展及應用 8.7 本章總結 習題 參考文獻 第九章 蝕刻製程 9.1 蝕刻製程簡介 9.2 蝕刻製程基礎 9.3 濕式蝕刻製程 9.4 電漿(乾式)蝕刻製程 9.5 電漿蝕刻製程 9.6 蝕刻製程發展趨勢 9.7 蝕刻工藝的檢驗和計量 9.8 最新進展 9.9 本章總結 習題 參考文獻 第十章 化學氣相沉積與介電質薄膜 10.1 簡介 10.2 化學氣相沉積 10.3 介電質薄膜的應用於CMOS IC 10.4 介電質薄膜特性 10.5 介電質CVD製程 10.6 旋轉塗佈矽玻璃(Spin-on Glass,SOG) 10.7 高密度電漿CVD(HDP-CVD) 10.8 介電質CVD反應室清潔 10.9 新千禧年的介電質材料 10.10 本章總結 習題 參考文獻 第十一章 金屬化製程 11.1 簡介 11.2 導電薄膜 11.3 金屬薄膜特性 11.4 金屬化學氣相沉積 11.5 物理氣相沉積 11.6 銅金屬化製程 11.7 最新進展 11.8 安全性 11.9 本章總結 習題 參考文獻 第十二章 化學機械研磨製程 12.1 簡介 12.2 CMP硬體設備 12.3 CMP研磨漿 12.4 CMP基本理論 12.5 CMP製程 12.6 CMP製程近年發展 12.7 本章總結 習題 參考文獻 第十三章 半導體製程整合 13.1 簡介 13.2 晶圓準備 13.3 隔離技術 13.4 井區形成 13.5 電晶體製造 13.6 高k金屬閘極MOSFET 13.7 連線技術 13.8 鈍化 13.9 本章總結 習題 參考文獻 第十四章 IC製程技術 14.1 簡介 14.2 1980年代CMOS製程流程 14.3 1990年代CMOS製程流程 14.4 2000年代CMOS製程流程 14.5 2010年代CMOS製程流程 14.6 記憶體晶片製造製程 14.7 本章總結 習題 參考文獻 第十五章 3D IC元件的製造過程 15.1 引言 15.2 埋入式閘極字元線DRAM 15.3 3D-NAND 快閃記憶體 15.4 高介電質、金屬閘極FinFET CMOS製造 15.5 本章總結 習題 參考文獻 第十六章 總結與未來趨勢 參考文獻

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