半導體元件物理與製程:理論與實務 (4版)
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半導體元件物理與製程─理論與實務
Semiconductor Device Physics and Process Integration:Theory & Practice
作 者:劉傳璽 、陳進來
出版社別:五南
出版日期:2022/09/01(4版2刷)
ISBN:978-626-317-514-3
E I S B N:9786263175280
書 號:5D75
頁 數:560
開 數:20K
內容簡介
以深入淺出的方式,系統性地介紹目前主流半導體元件(CMOS)之元件物理與製程整合所必須具備的基礎理論、重要觀念與方法、以及先進製造技術。內容可分為三個主軸:第一至第四章涵蓋目前主流半導體元件必備之元件物理觀念、第五至第八章探討現代與先進的CMOS IC之製造流程與技術、第九至第十二章則討論以CMOS元件為主的IC設計和相關半導體製程與應用。由於強調觀念與實用並重,因此儘量避免深奧的物理與繁瑣的數學;但對於重要的觀念或關鍵技術均會清楚地交代,並盡可能以直觀的解釋來幫助讀者理解與想像,以期收事半功倍之效。
本書宗旨主要是提供讀者在積體電路製造工程上的know-how與know-why;並在此基礎上,進一步地介紹最新半導體元件的物理原理與其製程技術。它除了可作為電機電子工程、系統工程、應用物理與材料工程領域的大學部高年級學生或研究生的教材,也可以作為半導體業界工程師的重要參考
本書特色
●包含實務上極為重要,但在坊間書籍幾乎不提及的WAT,與鰭式電晶體(Fin-FET)、環繞式閘極電晶體(GAA-FET)等先進元件製程,以及碳化矽(SiC)與氮化鎵(GaN)功率半導體等先進技術。
●大幅增修習題與內容,以求涵蓋最新世代積體電路製程技術之所需。
●以最直觀的物理現象與電機概念,清楚闡釋深奧的元件物理觀念與繁瑣的數學公式。
●適合大專以上學校課程、公司內部專業訓練、半導體從業工程師實務上之使用。
目錄
第一章 半導體元件物理的基礎
1.1 半導體能帶觀念與載子濃度
1.2 載子的傳輸現象
1.3 支配元件運作的基本方程式
第二章 P-N 接面
2.1 P-N接面的基本結構與特性
2.2 零偏壓
2.3 逆向偏壓
2.4 空乏層電容
2.5 單側陡接面
2.6 理想的電流-電壓特性
2.7 實際的電流-電壓特性
2.8 接面崩潰現象與機制
第三章 金氧半場效電晶體(MOSFET)的基礎
3.1 MOS電容的結構與特性
3.2 理想的MOS(金氧半)元件
3.3 實際的MOS(金氧半)元件
第四章 長通道MOSFET元件
4.1 MOSFET的基本結構與類型
4.2 基本操作特性之觀念
4.3 電流-電壓特性之推導
4.4 其他重要元件參數與特性
第五章 短通道MOSFET元件
5.1 短通道元件的輸出特性
5.2 短通道元件的漏電流現象
第六章 CMOS製造技術與製程介紹
6.1 CMOS製造技術
6.2 CMOS製造流程介紹
第七章 製程整合
7.1 元件發展需求
7.2 基板工程(substrate engineering)
7.3 閘極工程
7.4 源/汲極工程(Source/Drain engineering)
7.5 內連線工程(inter-connection)
第八章 先進元件製程
8.1 先進元件製程需求
8.2 SOI
8.3 應變矽Strain Si
8.4 非平面元件 3D device
8.5 高介電閘極氧化層(High K gate dielectric)
8.6 金屬閘極Metal gate
第九章 邏輯元件
9.1 邏輯元件的要求—速度、功率
9.2 反向器(Inverter)
9.3 組合邏輯(Cmbinational Logic)
9.4 時序邏輯Sequential Logic —Latch, DFF
9.5 邏輯元件應用Standard Cell、Gate Array、CPLD、FPGA
第十章 邏輯/類比混合訊號
10.1 混合訊號特性
10.2 混合訊號電路
10.3 混合訊號的主動元件( Active device)
10.4 混合訊號被動元件(Passive device)
10.5 混合訊號電路特別需求
第十一章 記憶體
11.1 CMOS記憶體特性與分類
11.2 靜態隨機存取記憶體SRAM
11.3 動態隨機存取記憶體DRAM
11.4 快閃記憶體Flash
11.5 發展中的先進記憶體
第十二章 分離元件
12.1 功率二極體
12.2 功率金氧半場效電晶體
12.3 溝槽式閘極功率金氧半電晶體
12.4 超接面金氧半電晶體Super Junction MOSFET
12.5 絕緣閘雙極型電晶體Insulated Gate Bipolar Transistor
12.6 碳化矽(SiC)功率半導體SiC
12.7 氮化鎵(GaN) 功率半導體
第十三章 元件電性量測WAT 413
13.1 直流(DC)電性量測
13.2 C-V(capacitance-voltage)電性量測
13.3 RF 電性量測
13.4 元件模型
第十四章 SOC 與半導體應用
14.1 IC 功能分類
14.2 SOC
14.3 半導體應用
14.4 資訊電子Computer
14.5 通訊電子Communication
14.6 消費性電子Consumer
14.7 汽車電子Car
14.8 網際網路
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半導體製程與整合(THC) (1版)
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【簡介】
本書詳述了西元2010年後的實際量產之半導體技術,首先介紹基礎半導體知識,以及基礎的模組製程。此外,本書更以四百張以上圖例,詳細說明二維平面式電晶體之製程整合技術,以及三維鰭式電晶體之製程整合技術。
先進的半導體製程技術,如受應力之矽通道、高介電閘極氧化層、金屬閘極、元件閘極設計考量、MOSFET 遷移率、先進的源極與汲極工程,都有詳細的說明與探討。
材料分析技術,如掃描式電子顯微鏡、穿透式電子顯微鏡、X光光譜分析、拉曼光譜儀等,都涵蓋實例應用說明。
半導體製程未來發展趨勢,包含有鰭式場效電晶體的微縮極限、環繞式閘極場效電晶體(GAAFET)、互補式場效電晶體 (CFET)、垂直傳輸場效電晶體、三維積體電路技術 (3D IC),皆有詳細說明。
本書為半導體製程與整合相關知識內容之教科書,適合大專院校相關理工科系,也適合給從事半導體產業相關人員與相關領域專家參考。
【目錄】
第一章 半導體積體電路發展
第二章 基礎半導體材料
第三章 基礎半導體元件
第四章 氧化與加熱製程
第五章 微影製程
第六章 擴散與離子佈植製程
第七章 蝕刻製程
第八章 介電質薄膜與化學氣相沉積
第九章 半導體金屬化製程
第十章 CMOSFET製程整合
第十一章 先進元件製程
第十二章 FinFET製程整合
第十三章 半導體材料分析技術
第十四章 半導體元件製程發展趨勢
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先進微電子3D-IC構裝 (5版)
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【簡介】
先進3D-IC構裝設計在微電子領域展現出多項顯著優勢。透過垂直堆疊多層積體電路(IC),該技術實現在更小空間內達成更高的元件整合,優化空間利用,並打造更加緊湊與高效的電子構裝。此方法能有效縮短互連距離,提升訊號傳輸速度,同時降低能耗。此外,3D-IC構裝允許異質整合,使得各種功能晶片(如邏輯、記憶體及感測器)能夠在單一平台上結合,進一步提升系統性能與功能,尤其適用於高性能計算(HPC)、人工智慧(AI)、行動設備及物聯網(IoT)等領域的創新應用。總體而言,先進的3D-IC構裝為微電子構裝技術開闢了提升性能、提高能效及增加設計靈活性的全新途徑。鑑於近年來CoWoS技術、扇出型晶圓級構裝(FOWLP)等技術的快速發展,以及半導體構裝測試廠(OSATS)和晶圓代工廠(Foundry)廣泛採用3D-IC解決方案,本書將反映這些快速演變的趨勢及其對業界的影響。
【目錄】
目 錄
推薦序一
推薦序二
致 謝
序 文
第一章 微電子構裝技術概論
1. 前言
2. 電子構裝之基本步驟
3. 電子構裝之層級區分
4. 晶片構裝技術之演進
5. 參考資料
第二章 覆晶構裝技術
1. 前言
2. 覆晶構裝技術(Flip Chip Technology)介紹
3. 其他各種覆晶構裝技術
4. 結論
5. 參考資料
第三章 覆晶構裝之 UBM 結構及蝕刻技術
1. 前言
2. UBM 結構
3. UBM 濕式蝕刻製程及設備
4. 各種 UBM 金屬層之蝕刻方法及注意事項
5. 結論
6. 參考資料
第四章 微電子系統整合技術之演進
1. 前言
2. 系統整合技術之演進
3. 電子數位整合之五大系統技術
4. 結論
5. 參考文獻
第五章 3D-IC 技術之發展趨勢
1. 前言
2. 構裝技術之演進
3. TSV 製作 3D 晶片堆疊的關鍵技術
4. 結論
5. 參考文獻
第六章 TSV 製程技術整合分析
1. 前言
2. 導孔的形成(Via Formation)
3. 導孔的填充(Via Filling)
4. 晶圓接合(Wafer Bonding)
5. 晶圓薄化(Wafer Thinning)
6. 發展 3D 系統整合之各種 TSV 技術
7. 結論
8. 參考文獻
第七章 3D-IC 製程之晶圓銅接合應用
1. 前言
2. 晶圓銅接合方式
3. 銅接合的基本性質(Fundamental Properties of Cu Bonding)
4. 銅接合的發展(Cu Bond Development)
5. 結論
6. 參考資料
第八章 TSV 銅電鍍製程與設備之技術整合分析
1. 前言
2. TSV 銅電鍍設備(TSV Copper Electroplating Equipment)
3. TSV 銅電鍍製程(TSV Copper Electroplating Process)
4. 影響 TSV 導孔電鍍銅填充之因素(Factors Affecting Copper Plating)
5. 電鍍液之化學成分
6. TSV 電鍍銅製程之需求
7. 結論
8. 參考文獻
第九章 無電鍍鎳金在先進構裝技術上之發展
1. 前言
2. 無電鍍鎳金之應用介紹
3. 無電鍍鎳金製程問題探討
4. 無電鍍鎳製程
5. 無電鍍(化學鍍)金
6. 結論
7. 參考資料
第十章 環保性無電鍍金技術於電子產業上之發展
1. 前言
2. 非氰化物鍍液(Non-cyanide Bath)的發展狀況
3. 結論
4. 參考文獻
第十一章 無電鍍鈀(Electroless Plating Palladium)技術
1. 聯氨鍍液(Hydrazine-based Baths)
2. 次磷酸鹽鍍液(Hypophosphite Based Baths)
3. 使用其他還原劑之鍍液
4. 無電鍍鈀合金
5. 結論
6. 參考文獻
第十二章 3D-IC 晶圓接合技術
1. 前言
2. 晶圓對位製程(Wafer Alignment Process)
3. 晶圓接合製程(Wafer Bonding Process)
4. 結論
5. 參考文獻
第十三章 扇出型晶圓級構裝(Fan-out WLP)之基本製程與發展方向
1. 前言
2. Fan-out WLP 基本製造流程
3. Fan-out WLP 之 RCP 與 eWLP 技術
4. Fan-out WLP 所面臨的挑戰
5. 完全鑄模(Fully Molded)Fan-out WLP 技術
6. Fan-out WLP 的未來發展方向
7. 結論
8. 參考資料
第十四章 嵌入式扇出型晶圓級或面版級構裝技術
1. 嵌入式晶片(Embedded Chips)
2. FOWLP 的形成(Formation of FOWLP)
3. RDL 製作方法(RDL Process)
4. 圓形或方形重新配置之載具的選擇
5. 介電材料
6. 膠體材料
7. 結論
8. 參考資料
第十五章 3D-IC 構裝導線連接技術
1. 前言
2. 3D-IC 構裝堆疊技術比較:C2C、C2W 和 W2W
3. 晶片對晶片(C2C)與晶片對晶圓(C2W)堆疊技術
4. 晶圓對晶圓(W2W)堆疊技術
5. 暫時性鍵合與解鍵合技術應用於薄化晶圓持取與製程(Temporary Bonding and De-bonding for Thin-Wafer Handling and Processing)
6. 結論
7. 參考資料
第十六章 扇出型面版級構裝技術的演進
1. 前言
2. J-Devices的WFOP技術
3. Fraunhofer的FOPLP技術
4. SPIL的P-FO技術
5. FOPLP技術必須克服的挑戰
6. 結論
7. 參考文獻
第十七章 3D-IC異質整合構裝技術
1. 介紹
2. 3D-IC 異質整合技術
3. 結論
4. 參考資料
索引
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數位積體電路設計─從IC Design的實務面介紹Verilog硬體描述語言(DVD Inside)
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數位積體電路設計─從IC Design的實務面介紹Verilog硬體描述語言(DVD Inside)
+作者:夏大維著
+年份:2016 年1 版
+ISBN:9789865647339
+書號:EE0443
+規格:16開/平裝/單色
+頁數:448
+出版商:滄海
1.以作者20多年專業IC設計的經驗傳承為主軸,有別於一般傳統Verilog語法教學與撰寫程序為主,因此本書是以專業、實務的角度,以培育優秀的IC設計工程師、研發經理與帶領團隊為目標,介紹Verilog的語法和實務上的細節。
2.本書特別著重Verilog語法與實務的融會貫通,力求利用淺顯的文字及適當的釋例,解說Verilog觀念與IC設計的關聯性,以協助讀者掌握文中的重要概念,使讀者進一步了解Verilog與IC電子電路的關係。
3.每章章末的習題均與章前的學習目標搭配,幫助讀者對該章重要概念之掌握。另外,本書隨附光碟中涵括許多IC設計之相關專業論文與專業軟體,能幫助讀者快速與國際接軌,以提升IC設計的專業素質。
4.本書適時介紹台灣的半導體產業,與上、中、下游各公司的分工關係,提供讀者生涯規劃與職前面試的參考。
目錄
第1章 數位 IC 的設計觀念
第2章 Verilog 的演進與電子設計自動化
第3章 Verilog 的模組與架構
第4章 Verilog 的敘述與電路設計
第5章 組合邏輯電路與算術邏輯運算
第6章 循序邏輯電路
第7章 有限狀態機器
第8章 記憶體設計與應用
第9章 Verilog 2001 增強特色
第10章 重要的網站與免費 IP 資源
附錄A 關鍵字、系統任務與函式、編譯器指令的列表
附錄B 正式的語法定義
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實用IC封裝
ISBN13:9786263437548
出版社:五南圖書出版
作者:蕭献賦
裝訂/頁數:平裝/336頁
規格:23cm*17cm*1.6cm (高/寬/厚)
重量:560克
版次:2
出版日:2023/02/25
中文圖書分類:電子工程
內容簡介
本書係針對入門者編寫的IC封裝專業書籍,目的在於推廣基礎IC封裝知識。書中除收錄和IC封裝相關的基本概念和理論外,也包括作者在職場上累積的實用經驗及心得。
書中討論的IC封裝以塑膠封裝為主,主要包含常見IC封裝的材料、製程和相關的認證方式,除介紹各類封裝產品的構造和製造程序之外,也對其背後隱藏的原理加以說明。此外,本書也簡單介紹IC封裝的演變及部分封裝產品之設計概念,讓讀者能知其然,也知其所以然。本書適合作為半導體製程相關課程或是IC封裝相關訓練之參考書籍。由於書中收納常用認證程序,也同時將許多常用數據整理於附表中,對於在工作中需具備基本IC封裝知識的IC設計工程師、外包工程師、QA工程師、及可靠度工程師來說,也適合作為工具書使用。
目錄
第一章 簡介:IC封裝和半導體
1. IC封裝在國內的產值
2. 電子產品與IC
3. 什麼是IC封裝
4. IC封裝的目的和功能
5. 封裝的層次
6. 半導體和電晶體
第二章 IC封裝的演變、種類和趨勢
7. 早期開發的IC封裝
8. 導線架封裝
9. 塑膠載板封裝
10. 覆晶封裝與凸塊
11. WLP與WLCSP
12. 3DIC與SiP
第三章 封裝材料與製程
13. 封裝製程主要材料
14. 導線架封裝製程
15. 塑膠載板封裝製程
16. 覆晶封裝製程
17. 晶圓凸塊製程
18. WLCSP
19. 密合封裝與氣腔封裝
第四章 封裝產品的可靠度和失效分析
20. 可靠度與常見名詞
21. 常見產品壽命分布模型
22. 浴缸曲線
23. 韋柏分布
24. IC封裝的可靠度
25. 上板前環境條件
26. 熱應力
27. 溫度循環試驗
28. 壓力鍋測試
29. 高溫儲存試驗
30. 濕度耐受試驗
31. 高速濕度耐受試驗
32. IC封裝可靠度驗證計畫
33. 失效分析誤判的可能
第五章 熱和應力與IC封裝設計
34. 溫度對IC的影響
35. 熱阻和散熱設計的基礎概念
36. 實用封裝熱阻定義與應用
37. 以數值方法模擬產品中的溫度和應力
38. 利用ANSYS模擬軟體進行BGA焊點失效位置預測
參考資料
索引
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半導體製程概論(May:Fundamentals of Semiconductor Fabrication)
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書名:半導體製程概論(增訂版)(May:Fundamentals of Semiconductor )
作者:施敏、 梅凱瑞
出版社:交大出版社
ISBN:9789866301896
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晶圓代工與先進封裝產業科技實務 (2版)
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【簡介】
車用晶片大缺貨!全球瘋搶台積電!
本書將帶您徹底了解台積電最新技術:
什麼是電晶體MOSFET、FinFET、GAAFET?
什麼是光罩、摻雜、蝕刻、磊晶、化學機械研磨?
什麼是晶圓級封裝FIWLP、FOWLP、InFO?
什麼是立體封裝(CoWoS)與小晶片(Chiplet)?
本書適合非工程背景的產業分析師、財金法律商務人士,
如果你對半導體產業似懂非懂,本書將是你徹底了解的唯一途徑。
本書深入淺出適合「非理工背景」的高階主管與商務人士,將艱深困難的科技知識簡化成大家能夠理解的內容,在未來科技領導產業創新的時代是所有商務人士的必修課程。
對產業科技有基本的認識,將艱深困難的科技知識簡化成大家夠理解的內容,在未來科技領導產業創新的時代是所有商務人士的必修課程。
➩適合上市櫃公司董監事、高階主管、政府首長、商務人士等。
➩適合金融產業創投、證券、保險、會計、產業分析、智慧財產等。
➩適合一般產業新聞記者、編輯、科技管理、智慧財產等。
➩適合科技產業行銷、業務、法務、採購、人力資源、跨領域工程師等。
➩適合高中生科技素養教育,參加認證考試取得證書升學口試更順利。
【目錄】
第一章 基礎光電科學(Basic Optoelectronic Science)
1-1科學數量級
1-2電子與電洞
1-3電子槍
1-4離子與電漿
第二章 基礎材料科學(Basic Material Science)
2-1元素週期表
2-2物質的種類
2-3固體材料的種類
2-4基礎結晶學
2-5固體材料的結晶
2-6半導體材料的鍵結
2-7半導體材料的種類
2-8半導體的導電特性
第三章 固體材料製造技術(Solid state material)
3-1固體材料製造分類
3-2單晶塊材製造技術
3-3單晶薄膜製造技術
3-4多晶塊材製造技術
3-5多晶薄膜製造技術
3-6非晶塊材製造技術
3-7非晶薄膜製造技術
第四章 電子元件簡介(Introduction to Electronic Device)
4-1電子元件的分類
4-2二極體
4-3金屬氧化物半導體場效電晶體
4-4金屬半導體場效電晶體
4-5雙極性接面電晶體
4-6混合型電晶體
4-7被動元件:電阻、電容、電感
第五章 積體電路概論(Introduction to Integrated Circuit)
5-1積體電路的組成與世代
5-2積體電路的製作流程
5-3積體電路的種類
5-4積體電路產業的分工模式
第六章 積體電路的黃光微影(Photolithography)
6-1潔淨室與晶圓廠
6-2光罩與倍縮光罩
6-3黃光微影技術
6-4黃光微影技術演進
6-5先進光學微影技術
6-6光罩圖形轉移的實例
第七章 積體電路的晶圓製程(Wafer fabrication)
7-1摻雜技術
7-2蝕刻技術
7-3薄膜成長
7-4多層導線
7-5化學機械研磨
第八章 積體電路的封裝測試(Packaging and Testing)
8-1晶圓的尺寸與良率
8-2封裝與測試的步驟
8-3封裝的種類與材料
8-4傳統封裝技術
8-5晶圓級封裝
8-6立體封裝技術
8-7小晶片封裝技術
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書名:電子學(基礎理論)(第十版)
原文書名 : Electronic Devices (Conventional Current Version) 10/E
作者:Floyd
翻譯:楊棧雲
出版社:全華
出版日期:2019/06/01
ISBN:9789865030704
內容簡介
本書譯自Thomas L. Floyd原著「Electronic Devices」(第十版),分為基礎理論、進階應用兩冊,本書內容豐富,大量例題的相關習題及每小節後的隨堂測驗,解答都可在隨書光碟中找到。本書適用於大學、科大電子、電機、機械及資工系,日、夜間部「電子學」課程使用。
■ 本書特色
1.每一章前面都有本章大綱、本章學習目標、簡介、重要詞彙與可參訪教學專用 等項目,可迅速了解每章重點。
2.本書內容豐富,在每小節後附有隨堂測驗及大量的例題、特殊的解題方法,可加強基本概念。
3.全書採用全彩精美印刷,內容層次分明,條列清晰。
4.各章皆有基本習題,讓學生及自學者檢視學習之成果。
目錄
1電子學簡介
1-1原子
1-2用於電子學的材料
1-3半導體的電流
1-4N型與P型半導體
1-5PN 接面
2二極體及應用
2-1二極體的工作原理
2-2二極體的電壓-電流(V-I)特性
2-3二極體的各種模型
2-4半波整流器
2-5全波整流器
2-6電源濾波器與調整器
2-7二極體限位器與箝位器
2-8電壓倍增器
2-9二極體特性資料表
3特殊用途二極體
3-1齊納二極體
3-2齊納二極體的應用
3-3光學二極體
4雙極接面電晶體
4-1雙極接面電晶體(BJT)結構
4-2BJT的基本工作原理
4-3BJT的特性和參數
4-4BJT當作放大器
4-5BJT當作開關
4-6光電晶體
4-7電晶體的類別和封裝
5電晶體偏壓電路
5-1直流工作點
5-2分壓器偏壓
5-3其他的偏壓方法
6BJT 放大器
6-1放大器的工作原理
6-2電晶體交流模型
6-3共射極放大器
6-4共集極放大器
6-5共基極放大器
6-6多級放大器
6-7差動放大器
7場效電晶體
7-1接面場效電晶體
7-2接面場效電晶體的特性與參數
7-3JFET 偏壓
7-4歐姆區
7-5金屬氧化物半導體電晶體
7-6MOSFET 的特性與參數
7-7MOSFET偏壓
7-8絕緣閘雙極電晶體
8FET放大器及開關電路
8-1共源極放大器
8-2共汲極放大器
8-3共閘極放大器
8-4D類放大器
8-5MOSFET類比開關
8-6MOSFET 數位開關
9運算放大器
9-1運算放大器簡介
9-2運算放大器輸入模式與參數
9-3負回授
9-4具有負回授的運算放大器
9-5負回授對運算放大器阻抗的影響
9-6偏壓電流和抵補電壓
9-7開環路頻率與相位響應
9-8閉環路頻率響應
10基本運算放大器電路
10-1比較器
10-2加法放大器
10-3積分器和微分器
附 錄
習題解答
詞彙
書名:電子學(進階應用)(第十版)
作者:Floyd(楊棧雲)
出版社:全華圖書
出版日期:2019/12/00
ISBN:9789865032944
內容簡介
本書譯自Thomas L. Floyd原著「Electronic Devices」(第十版),分為基礎理論、進階應用兩冊,本書內容豐富,大量例題的相關習題及每小節後的隨堂測驗。本書適用於大學、科大電子、電機系「電子學II」課程使用。
本書特色
1.每一章前面都有本章大綱、本章學習目標、簡介、重要詞彙與可參訪教學專用 等項目,可迅速了解每章重點。
2.本書內容豐富,在每小節後附有隨堂測驗及大量的例題、特殊的解題方法,可加強基本概念。
3.全書採用全彩精美印刷,內容層次分明,條列清晰。
4.各章皆有基本習題,讓學生及自學者檢視學習之成果。
目錄
11 BJT功率放大器
11-1 A類功率放大器
11-2 B類和AB類推挽式放大器
11-3 C類放大器
12 放大器頻率響應
12-1 基本概念
12-2 分貝
12-3 放大器低頻響應
12-4 放大器高頻響應
12-5 放大器總頻率響應
12-6 多級放大器的頻率響應
12-7 頻率響應的量測
13 閘流體
13-1 基本四層二極體
13-2 矽控整流器(SCR)
13-3 SCR的應用
13-4 雙向觸發二極體(Diac)和雙向交流觸發三極體(Triac)
13-5 矽控開關(SCS)
13-6 單接面電晶體(UJT)
13-7 可程式單接面電晶體(PUT)
14 特殊用途積體電路
14-1 儀表放大器
14-2 隔離放大器
14-3 運算跨導放大器(OTA)
14-4 對數與反對數放大器
14-5 轉換器與其他積體電路
15 主動濾波器
15-1 基本濾波器頻率響應
15-2 濾波器頻率響應的特性
15-3 主動低通濾波器
15-4 主動高通濾波器
15-5 主動帶通濾波器
15-6 主動帶止濾波器
15-7 濾波器頻率響應的量測
16 振盪器
16-1 振盪器
16-2 回授振盪器
16-3 RC回授電路振盪器
16-4 LC回授電路振盪器
16-5 弛緩振盪器
16-6 將555計時器當作振盪器使用
17 電壓調整器
17-1 電壓調整
17-2 基本線性串聯調整器
17-3 基本線性並聯調整器
17-4 基本交換式調整器
17-5 積體電路電壓調整器
17-6 積體電路電壓調整器的電路型態
附 錄
習題解答
詞彙
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電子學(進階應用)10/e (10版)
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書名:電子學(基礎理論)(第十版)
原文書名 : Electronic Devices (Conventional Current Version) 10/E
作者:Floyd
翻譯:楊棧雲
出版社:全華
出版日期:2019/06/01
ISBN:9789865030704
內容簡介
本書譯自Thomas L. Floyd原著「Electronic Devices」(第十版),分為基礎理論、進階應用兩冊,本書內容豐富,大量例題的相關習題及每小節後的隨堂測驗,解答都可在隨書光碟中找到。本書適用於大學、科大電子、電機、機械及資工系,日、夜間部「電子學」課程使用。
■ 本書特色
1.每一章前面都有本章大綱、本章學習目標、簡介、重要詞彙與可參訪教學專用 等項目,可迅速了解每章重點。
2.本書內容豐富,在每小節後附有隨堂測驗及大量的例題、特殊的解題方法,可加強基本概念。
3.全書採用全彩精美印刷,內容層次分明,條列清晰。
4.各章皆有基本習題,讓學生及自學者檢視學習之成果。
目錄
1電子學簡介
1-1原子
1-2用於電子學的材料
1-3半導體的電流
1-4N型與P型半導體
1-5PN 接面
2二極體及應用
2-1二極體的工作原理
2-2二極體的電壓-電流(V-I)特性
2-3二極體的各種模型
2-4半波整流器
2-5全波整流器
2-6電源濾波器與調整器
2-7二極體限位器與箝位器
2-8電壓倍增器
2-9二極體特性資料表
3特殊用途二極體
3-1齊納二極體
3-2齊納二極體的應用
3-3光學二極體
4雙極接面電晶體
4-1雙極接面電晶體(BJT)結構
4-2BJT的基本工作原理
4-3BJT的特性和參數
4-4BJT當作放大器
4-5BJT當作開關
4-6光電晶體
4-7電晶體的類別和封裝
5電晶體偏壓電路
5-1直流工作點
5-2分壓器偏壓
5-3其他的偏壓方法
6BJT 放大器
6-1放大器的工作原理
6-2電晶體交流模型
6-3共射極放大器
6-4共集極放大器
6-5共基極放大器
6-6多級放大器
6-7差動放大器
7場效電晶體
7-1接面場效電晶體
7-2接面場效電晶體的特性與參數
7-3JFET 偏壓
7-4歐姆區
7-5金屬氧化物半導體電晶體
7-6MOSFET 的特性與參數
7-7MOSFET偏壓
7-8絕緣閘雙極電晶體
8FET放大器及開關電路
8-1共源極放大器
8-2共汲極放大器
8-3共閘極放大器
8-4D類放大器
8-5MOSFET類比開關
8-6MOSFET 數位開關
9運算放大器
9-1運算放大器簡介
9-2運算放大器輸入模式與參數
9-3負回授
9-4具有負回授的運算放大器
9-5負回授對運算放大器阻抗的影響
9-6偏壓電流和抵補電壓
9-7開環路頻率與相位響應
9-8閉環路頻率響應
10基本運算放大器電路
10-1比較器
10-2加法放大器
10-3積分器和微分器
附 錄
習題解答
詞彙
書名:電子學(進階應用)(第十版)
作者:Floyd(楊棧雲)
出版社:全華圖書
出版日期:2019/12/00
ISBN:9789865032944
內容簡介
本書譯自Thomas L. Floyd原著「Electronic Devices」(第十版),分為基礎理論、進階應用兩冊,本書內容豐富,大量例題的相關習題及每小節後的隨堂測驗。本書適用於大學、科大電子、電機系「電子學II」課程使用。
本書特色
1.每一章前面都有本章大綱、本章學習目標、簡介、重要詞彙與可參訪教學專用 等項目,可迅速了解每章重點。
2.本書內容豐富,在每小節後附有隨堂測驗及大量的例題、特殊的解題方法,可加強基本概念。
3.全書採用全彩精美印刷,內容層次分明,條列清晰。
4.各章皆有基本習題,讓學生及自學者檢視學習之成果。
目錄
11 BJT功率放大器
11-1 A類功率放大器
11-2 B類和AB類推挽式放大器
11-3 C類放大器
12 放大器頻率響應
12-1 基本概念
12-2 分貝
12-3 放大器低頻響應
12-4 放大器高頻響應
12-5 放大器總頻率響應
12-6 多級放大器的頻率響應
12-7 頻率響應的量測
13 閘流體
13-1 基本四層二極體
13-2 矽控整流器(SCR)
13-3 SCR的應用
13-4 雙向觸發二極體(Diac)和雙向交流觸發三極體(Triac)
13-5 矽控開關(SCS)
13-6 單接面電晶體(UJT)
13-7 可程式單接面電晶體(PUT)
14 特殊用途積體電路
14-1 儀表放大器
14-2 隔離放大器
14-3 運算跨導放大器(OTA)
14-4 對數與反對數放大器
14-5 轉換器與其他積體電路
15 主動濾波器
15-1 基本濾波器頻率響應
15-2 濾波器頻率響應的特性
15-3 主動低通濾波器
15-4 主動高通濾波器
15-5 主動帶通濾波器
15-6 主動帶止濾波器
15-7 濾波器頻率響應的量測
16 振盪器
16-1 振盪器
16-2 回授振盪器
16-3 RC回授電路振盪器
16-4 LC回授電路振盪器
16-5 弛緩振盪器
16-6 將555計時器當作振盪器使用
17 電壓調整器
17-1 電壓調整
17-2 基本線性串聯調整器
17-3 基本線性並聯調整器
17-4 基本交換式調整器
17-5 積體電路電壓調整器
17-6 積體電路電壓調整器的電路型態
附 錄
習題解答
詞彙
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【中文翻譯書】
書名 :半導體製造技術
原文書名:Semiconductor Manufacturing Technology
原文作者:Michael Quirk
中文譯者:羅文雄
初版日期:2016
出版社:滄海
ISBN:9789867727701
本書特色
●對於半導體製造技術從晶圓準備、次微米製程及封裝測試方面
皆做完整詳盡的介紹。
●最淺顯易懂的字詞揭示出原文書之精湛內容。
●對大專在學學生及實際線上工程師而言,皆是一本優良的課程
教材及技術入門手冊。
校閱者簡介
劉文超
學歷 國立成功大學電機工程研究所博士
現職 國立成功大學電機工程系教授
國立成功大學微電子研究所教授
許渭州
學歷 國立成功大學電機工程研究所博士
現職 國立成功大學電機工程系微電子所所長
國立成功大學電機工程系教授
國立成功大學微電子研究所教授
譯者簡介
羅文雄
學歷 國立成功大學電機工程研究所博士
現職 國立臺灣海洋大學電機工程系教授
蔡榮輝
學歷 國立成功大學電機工程研究所博士
現職 國立高雄師範大學物理系副教授
鄭岫盈
學歷 國立成功大學電機工程研究所博士
現職 亞東技術學院電機工程系助理教授
本書目錄
第1章
半導體工業簡介
第2章
半導體材料特性
第3章
元件技術
第4章
矽與晶圓準備
第5章
半導體製造之化學特性
第6章
半導體製造廠之污染控制
第7章
量測與缺陷
第8章
製程反應室之氣體控制
第9章
IC製造概述
第10章
氧化
第11章
沈積
第12章
金屬化
第13章
微影:氣相塗底至軟烤
第14章
微影:對準與曝光
第15章
微影:光阻顯影與先進雕像
第16章
蝕刻
第17章
離子植入
第18章
化學機械平坦化
第19章
晶圓測試
第20章
裝配與封裝
附錄A
化學品及其安全性
附錄B
無塵室中的污染控制
附錄C
單位
附錄D
以氧化物厚度為函數的顏色
附錄E
光阻化學品概論
附錄F
蝕刻化學品
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半導體元件物理-觀念解析與實務應用 2版 (2版)
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【簡介】
本書內容可以作為一學期或一學年兩學期之半導體元件物理的課程教材使用,也非常適合作為半導體相關工程師自我充實成長或公司內部教育訓練的教材。內容之編寫抱持書名副標題「觀念解析與實務應用」的理念,強調觀念與實務兼顧,因此盡量避免深奧的物理與繁瑣的數學,但對於重要的觀念與技術都會清楚的解釋,並盡可能以共通的基本原理原則,貫通前後章節的知識概念,使讀者輕易掌握其中條理脈絡,以內化成自己紮實的知識。因此,對於讀者欲研讀更高階的半導體元件物理知識,可以本書的內容為基礎再進一步研讀相關的課題,會是很好的切入點。
相較於坊間其他相關的半導體元件物理書籍,本書的特色至少包括:
涵蓋並詳細說明現代產業界先進元件技術之相關元件物理觀念。包括高介電係數介電層 (high-k dielectrics)、應變矽 (strained-Si)、鰭式電晶體 (Fin-FET) 等先進元件技術。
以直觀的「物理現象」與「電機概念」,用淺顯易懂的方式清楚闡釋深奧的元件物理觀念與在實務上相關的重要應用。
各章節中對於基礎、重要的內容,屬於讀者必須瞭解的觀念或公式,均提供作者特別設計之經典題型的「範例」,其包含促進讀者有效學習的「解答」與觀念釐清的「評論」。
各章節中對於容易混淆的觀念或公式,均提供作者精心整理設計的「圖表」與解說,讓讀者不需特別耗費時間死背公式或結果,而能吸收內化成為自己的知識,歷久不忘。
各章節中基礎、重要的內容,均依文本順序附有足夠的對應「習題」。習題主要選取自近二十年國家考試與研究所入學考試之經典題型,然對於未出現於前述之重要題型 ( 包含實務應用題 ),作者均設計補足。
【目錄】
1 導 論
2 半導體材料與晶體結構
3 半導體能帶觀念
4 熱平衡時的半導體能帶與載子濃度
5 導電載子的傳輸
6 非平衡狀態時的過量載子
7 PN接面
8 PN接面二極體
9 理想MOS結構
10 實際MOS元件
11 MOSFET元件
附錄A 物理常數
附錄B 轉換因數
附錄C 溫度300 K時常用之Si、Ge與GaAs的性質
附錄D 溫度300 K時常用之SiO2與Si3N4的性質
附錄E Si、Ge與GaAs常用性質隨絕對溫度 (T ) 變化關係
中英文索引
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【簡介】
│誠摯推薦│
前台積電共同營運長、鴻海集團半導體策略長 蔣尚義
前國科會科教處處長、國立彰化師範大學榮譽教授 郭重吉
元智大學電機系助理教授 陳念波
本書以電晶體為主軸,搭配半導體科技與科學實驗設計,經緯交織,建起通往現今世界的知識橋樑。書中所介紹的實驗,涵蓋了電晶體最重要的特性,完整的讓大家對半導體由淺入深地系統學習。
1948年提出的接面電晶體理論,成為半導體物理的經典,指導了往後70多年半導體元件和積體電路技術的發展,也改變了人類的生活文明。
人工製作的半導體元件能夠在電子產品中扮演那麼關鍵性的角色,主要是因為幾個重要的特性:可以控制單向電流;電晶體可以當成自動開關、大倍數地放大信號;它還有光電能轉換的特性,做出發光二極體(LED)和太陽能電池。
半導體大大地改變了人類的生活,難道不是我們的造化嗎?
【目錄】
第一章 半導體科技史
第一節 電子的發現
第二節 真空管電子時代
第三節 半導體電子時代—簡介半導體
第四節 半導體電子時代的科學史
第五節 臺灣的半導體產業沿革
第二章 直流、交流與整流
第一節 檢視直流電、交流電和整流的定義
第二節 簡介二極體
第三節 直流電、交流電和整流的實驗測試
第四節 二極體的橋式整流
第五節 吹風機中的橋式整流
第三章 由LED探索色光的分散與疊加
第一節 會變色的LED小夜燈
第二節 一顆三色疊加的七彩LED燈珠
第三節 嘗試設計一盞我們自己的LED神燈
第四節 簡介LED發光二極體
第四章 用偏光片體驗偏振光
第一節 偏光立體眼鏡
第二節 偏光片與偏振光
第三節 偏光片的多元驗證實驗
第四節 設計兩種膠帶偏光玩具
第五節 偏光片與偏振光的生活科技
第五章 順藤摸瓜 一探液晶顯示器
第一節 生活中的液晶顯示器
第二節 液晶顯示器裡的基本構造與功能
第三節 液晶顯示器的畫素單位
第四節 螢幕顯示器的演變
第五節 初探液晶顯示器的學習歷程
第六章 電晶體
第一節 由真空管說起
第二節 發現半導體p-n接面二極體
第三節 點觸式電晶體
第四節 雙極接面電晶體
第五節 金氧半場效電晶體
第六節 晶圓
第七節 「先進封裝」CoWoS的技術與AI
第七章 電晶體實驗
第一節 動手實作分析電晶體的電路
第二節 從實驗探究電晶體的功能
第三節 由「聲音」檢視電晶體可放大訊號
第四節 「後設認知」的理論與實踐
第八章 新一代的人工照明—LED燈
第一節 LED手電筒
第二節 出口指示燈
第三節 LED的照明
第九章 光控夜燈—光敏電阻應用實例
第一節 由光控小夜燈說起
第二節 探索電路中的光敏電阻與電晶體
第三節 再探電路中的光敏電阻與電晶體
第四節 工程警示燈
第十章 電磁爐與溫控風扇—熱敏電阻的應用實例
第一節 簡介
第二節 電磁爐
第三節 用溫控風扇模型探索半導體電路
第十一章 簡易電子樂器初探
第一節 石墨可以導電
第二節 電子樂器的靈魂 電晶體和IC
第三節 電子樂器的電磁喇叭和麥克風
第十二章 紅外線感應偵測器
第一節 屋內玄關天花板上的感應器
第二節 紅外線電風扇與光電半導體
第三節 健康的守護者 自動酒精噴霧器
第十三章 光電煙霧偵測器
第一節 光電煙霧偵測器的內部構造
第二節 光電煙霧偵測器的光電耦合
第三節 一般住宅用光電式火災煙霧偵測器
第十四章 太陽能電池
第一節 試用太陽能電池
第二節 太陽能電池的基本科學原理
第三節 太陽能電池與四季的日升日落
第四節 深入探索「太陽追蹤器實體模型」
第五節 學習心得、願景與後續活動
第十五章 電感升壓電路中的電晶體
第一節 電磁感應線圈中的電感器
第二節 「焦耳小偷電路」與電晶體
第三節 焦耳小偷電路的DIY
第十六章 電蚊拍與半導體
第一節 由電蚊拍簡探一般的變壓器
第二節 電蚊拍裡的電晶體當了電子開關
第三節 焦耳小偷電路的升級版在電蚊拍裡
第十七章 踢躂舞公仔中的半導體
第一節 手機充電器的回收再利用
第二節 踢躂舞公仔的結構和電路分析
第十八章 石英鐘與積體電路
第一節 分析時鐘的鐘面
第二節 探索石英鐘裡的馬達
第三節 石英鐘裡的電流和電路
第四節 積體電路與石英晶體
第五節 壓電和反壓電實驗
第六節 石英鐘裡的齒輪組
後記—我與半導體的奇妙緣份
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100張圖搞懂半導體產業鏈: 從技術面到政治面, 讓你徹底了解領航世界的關鍵產業
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【簡介】
本書一開始就開宗明義告訴讀者什麼是半導體?半導體的四大領域有那些?全球半導體市場有多大?與全球經濟發展又有什麼關係?當然,我們也會帶讀者認識全球有那些半導體大廠,也會讓讀者知道台灣在全球半導體產業有多麼重要,要讓各位讀者對全球半導體產業鏈有初步的認識。
接著,我們將會針對半導體產業鏈中的上游IC設計、中游晶圓代工、下游IC封裝測試分別進行詳細介紹。比如在IC設計領域,它的角色是什麼?矽智財是什麼?EDA是什麼?在晶圓代工領域,台積電為什麼這麼厲害?先進製程為什麼重要?在IC封裝測試領域中,在台灣大家將CoWoS朗朗上口,但CoWoS又是什麼黑科技?先進IC封裝還有什麼厲害絕招?本書以易懂的語彙為讀者一一介紹。
除半導體上中下游產業外,本書當然不能將在IC領域中市場規模僅次於邏輯IC的記憶體產業給遺漏掉,因為包括三星、美光、SK海力士等記憶體大廠都是同時擁有IC設計、晶圓代工、IC封裝測試的整合元件大廠,在IC產業鏈中是個自帶體系的特殊存在。本書將會對記憶體的各項產品、技術、產業結構,甚至台灣在全球記憶體市場的地位都會娓娓道來。
人工智慧絕對是從現在到未來影響全球經濟及科技發展的關鍵議題,在這背後也與半導體產業技術發展息息相關。本書也將先對人工智慧產業鏈進行介紹,人工智慧對半導體產業有什麼技術要求?又有那些半導體大廠參與其中?本書都將逐一解析。更重要的是,隨著人工智慧持續發展,半導體產業又將推出什麼新世代技術?透過本書的介紹,讓讀者能掌握人工智慧帶來的未來商機。
此外,美中晶片戰爭也是近年來全球半導體產業的火熱議題,本書先從晶片戰爭的前世今生講起,美國為了重返全球半導體產業霸權地位,祭出哪些手段?日本、南韓、歐盟如何因應?中國大陸是否真的被壓制成功?更重要的是,位處美中晶片戰爭兵家必爭之地的台積電該何去何從?這場牽動全球科技產業版圖變化的世紀大戲,本書也會細細解說。
既然提到美中晶片戰爭,就一定要談談中國半導體產業的快速崛起,這也是自2000年以來,延續近四分之一個世紀的熱門議題。看中國大陸如何以國家與政策力量,從無到有,進一步躋身世界半導體大國之列,其中的過程本書也會詳細介紹。
本書不僅透過產品及技術層面介紹半導體產業,更透過市場面、商業模式及市場策略,讓讀者對半導體產業鏈有充分認知。更重要的是,我們也針對「人工智慧」、「美中晶片戰爭」、「中國崛起」等三大議題進行深度介紹與解析,就是希望能讓您對掌握半導體產業未來發展能有所幫助。本書內容精彩豐富,以白話為讀者介紹,希望能用輕鬆易懂的方式帶各位一探半導體產業世界。
本◇書◇特◇色
積體電路產業完整的說明:
半導體產業廣義而言,包括面板、光電及積體電路。狹義而言專指積體電路(IC)。本書完整說明IC產業的產業鏈,包括IC設計、晶圓代工、封裝測試、記憶體等。
影響未來趨勢的重要關鍵說明:
目前影響半導體產業發展的最重要兩個關鍵因素,分別是地緣政治及中國大陸半導體產業發展。本書對此有清楚的論述。
文科高中生也可以看得懂,深入淺出:
結構清晰完整,用貼近日常生活的事物進行引申解釋。可以讓任何程度的人士,快速對半導產業有一定的了解。
【目錄】
Chap.01 導論—讓我們聊聊半導體產業吧!
1. 半導體是什麼?
2. 認識半導體產業鏈
3. 蝦米?!半導體產業鏈如同拍婚紗照!
4. 半導體產業鏈及主要廠商介紹
5. 全球經濟與半導體產業景氣變化關聯
6. 從全球半導體大廠排名變化看產業趨勢
7. 認識全球主要IDM
8. 台灣IC產業地位如何呢?
9. 台灣半導體產業鏈成熟而完整
Chap.02 半導體產業的產品設計師—認識IC設計
10. IC是怎麼設計的?和蓋房子一樣?(上)
11. IC是怎麼設計的?和蓋房子一樣?(下)
12. 認識五花八門的晶片
13. IC也有智財權
14. 智財權怎麼賺?
15. IC設計服務在做什麼?
16. EDA寡占產業的三巨頭
17. 從全球前10大IC設計公司排名變化看產業趨勢
18. 智慧型手機重要推手:認識高通與聯發科
19. 台灣IC設計產業在全球地位
Chap.03 不止是IC製造工廠—認識晶圓代工
20. 晶圓代工到底在做什麼?
21. 摩爾定律是什麼?
22. More Moore:先進製程持續推進
23. 2023年全球前五大晶圓代工廠簡介
24. 資本支出意義為何?
25. 如何觀察產能利用率?
26. 從2D到3D:電晶體技術演進
27. 進入2奈米時代的關鍵技術:晶背供電
28. 得先進製程得天下?
29. 台積電有形無形的王者策略
30. 英特爾的IDM 2.0戰略
31. 何謂Foundry 2.0?
Chap.04 超越摩爾定律的重要推手—認識IC封裝
32. IC封裝測試在做什麼?
33. 從短小輕薄到異質整合—IC封裝技術演進
34. 從傳統封裝到先進封裝(一):導線架封裝
35. 從傳統封裝到先進封裝(二):IC載板封裝
36. 從傳統封裝到先進封裝(三):系統單晶片
37. 從傳統封裝到先進封裝(四):系統級封裝
38. 從傳統封裝到先進封裝(五):矽穿孔3D IC
39. 系統單晶片、系統級封裝、矽穿孔3D IC比較
40. 人工智慧的重要推手:CoWoS
41. 台積電吃蘋果的重要技術:InFO
42. CoWoS終極進化版:SoW
43. 通往異質整合3D IC的第一手棋:SoIC
44. 挑戰CoWoS,英特爾推出EMIB平台
45. 人工智慧需求殷切,FOPLP異軍突起
46. 認識三星異質整合封裝技術
47. IC異質整合先進封裝種類與定義
Chap.05 受景氣循環影響的寡占產業─記憶體
48. 淺談記憶體
49. RAM、ROM傻傻分不清楚~談記憶體分類
50. 快閃記憶體會「閃」嗎?再談記憶體分類
51. 記憶體的產業循環
52. 記憶體的產業結構
53. 全球主要記憶體廠商排名
54. 台灣記憶體產業鏈
55. 隨AI竄起的HBM─買愈多、省愈多?
56. 記憶體更迭:次世代記憶體興起
Chap.06 從現在到未來的關鍵議題—人工智慧與半導體
57. 認識人工智慧產業鏈
58. HPC與IoT為IC製造於AI領域重要平台
59. 面對人工智慧,IC製造的挑戰
60. 人工智慧讓先進製程競爭加劇
61. 要了解AI晶片,得先知道xPU
62. AI晶片主戰場:人工智慧伺服器核心運算晶片市場
63. AI晶片新戰場:AI PC與AI智慧型手機晶片
64. 人工智慧重要推手~認識高頻寬記憶體
65. 主要IC製造大廠在IC封裝技術布局
66. 次世代人工智慧解決方案
67. InFO加SoIC,打造AI終端產品異質整合方案
68. 提升AI傳輸速度的重要引擎:矽光子
Chap.07 地緣政治與美中晶片戰對半導體產業的衝擊
69. 美中晶片戰爭的遠因與近因
70. 從矽盾到晶片戰爭
71. 力挽狂瀾,美國重返半導體霸權策略
72. 糖果?毒藥?美國通過《晶片與科學法案》
73. 歐盟《晶片法案》生效
74. 重返半導體霸權,日本公布《半導體產業緊急強化策略》
75. 打造超級半導體聚落,南韓推動《半導體支援計畫》
76. 地緣政治加速台積電全球布局
77. 出口管制,圍堵中國半導體產業發展成效有限
Chap.08 政策導向 認識中國大陸半導體產業發展
78. 中國大陸半導體產業起飛
79. 十五至十一五,中國大陸扶植半導體產業發展相關政策
80. 十二五規畫期間,中國大陸半導體產業發展目標
81. 大陸半導體企業租稅政策優惠比較
82. 推動半導體產業發展重要推手:大基金
83. 再接再厲!大陸政府推出大基金二期與三期
84. 十三五規畫期間,大陸政府對半導體產業政策支持
85. 《國家半導體產業發展推進綱要》政策目標與支持
86. 十四五規畫打造自主科技
87. 《中國製造2025》半導體產業政策目標與支持
88. 美中晶片戰圍堵,中國大陸IC產業遇亂流
Chap.09 結語~掌握未來商機,就要搞懂半導體產業
89. IC封裝技術演進
90. More Moore & More than Moore,3D × 3D 為技術發展必然趨勢
91. 前段加後段,半導體朝高整合方向發展
92. 人工智慧高整合、高效能運算平台
93. 中美貿易戰下台灣半導體業者因應策略
94. 中國半導體產業發展雖受阻,實力仍不容忽視
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公職考試2025試題大補帖【半導體工程】(100~113年試題)(申論題型)[適用三等/高考、地方特考] (1版)
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